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馬康 MALCOM 靜態回流裝置 RDT-250C|體積小,加熱性能高的RDT-250C


       杉本有售馬康 MALCOM 靜態回流裝置 RDT-250C,RDT-250C小而高的加熱性能,從試制、加熱測試、評價到生產都能滿足暢銷機。靜態回流裝置 RDT-250C再搭配馬康 MALCOM新開發的上表面熱風矩陣控制在安裝基板⊿t≤5℃。可以簡單地對無鉛焊錫封裝理想的梯形特征加熱。是性價比高、耗電量低的設備。更多馬康 MALCOM 靜態回流裝置 RDT-250C 信息還請訪問深圳市杉本貿易有限公司官網咨詢。

靜態回流裝置 RDT-250C 產品圖

RDT-250C 特點:
●通過本公司新開發的上表面熱風矩陣控制在安裝基板⊿t≤5℃
- 可以簡單地對無鉛焊錫封裝理想的梯形特征加熱。
- 具有優異的性價比,是一種低功耗設備。


RDT-250C 規格:

項目
規格
類型表達式 RDT-250C
目標基板 250W×330Lmm以下 高度 保持面上下均15mm以下
設備尺寸 830(W)×557(D)×523(H)(mm)
加熱系統 上表面:熱空氣和遠紅外輻射
冷卻系統 帶冷卻流量調節閥(與排氣阻尼器聯動),通過引入外部氣體(氮氣或空氣)
電源 三相 200V 50/60Hz 18kVA
外部氣體 0.3 至 0.5MPa 100 升/分鐘 (MAX)
爐內氧氣濃度(使用氮氣時) 至少 100 ppm
基板托盤 網絡或載波類型(選擇)
加熱頂部 熱空氣和遠紅外加熱器:7.2kW(約240W×30塊)
可相對于參考模塊設置偏差 熱空氣加熱器:8kW(2kW×4)
底部加熱 遠紅外加熱器:約2kW(330W×6)
溫度精度 室溫~80°c:±3°c 80°c~330°c:±2°c
測量溫度 室溫至330°c
測量點 6 分
氮氣供應功能 流量調節閥:100l/min
控制 RDT-250S
支持的操作系統:WindowsXP/2000
設備重量 約110公斤

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